一、設備用途：

工礦企業、高校、研究所等做高溫燒結、金屬退火、質量檢測。粉末冶金行業以及義齒加工行業的烘烤、氧化鋯盤預燒結等。根據加熱區大小，進行小試，中試，批量生產。

二、設備優勢：

1.華測儀器高溫管式爐使用的反射鏡是具有曲率,采用5軸加工系統加工,以提高反射率。反射鏡有兩種類型，一種是橢圓形的，另一種是拋物線型的，它們適合各種材料的在溫度制控的條件下的測試。  

2.高速加熱與冷卻方式：高能量的紅外燈和鍍金反射方式允許高速加熱到高溫。同時爐體可配置水冷系統，增設氣體冷卻裝置，可實現快速冷卻。

3.溫度控制：過紅外鍍金聚焦爐和溫度控制器的組合使用，可以jing準控制樣品的溫度(遠比普通加溫方式)。此外，冷卻速度和保持在任何溫度下可提供。

4.不同環境下的加熱與冷卻：加熱/冷卻可用真空、氣氛環境、低溫（高純度惰性氣體靜態或流動），操作簡單，使用石英玻璃制成。紅外線可傳送到加熱/冷卻室。

三、應用范圍：

1. 電子材料

◆半導體用硅化合化的PRA（加熱后急速冷卻）

◆熱源薄膜形成

◆激活離子注入后

◆硅化物的形成

2. 陶瓷與無機材料

◆陶瓷基板退火爐

◆玻璃基板退火爐

◆陶瓷張力、撓曲試驗退火爐

3. 鋼鐵和金屬材料

◆薄鋼板加熱過程的數值模擬

◆爐焊接模擬

◆高真空熱處理（1000°C以下）

◆大氣氣體熔化過程

◆壓力下耐火鋼和合金的熱循環試驗爐

4. 復合材料

◆耐熱性評價爐

◆無機復合材料熱循環試驗爐

5. 其它

◆高溫拉伸壓縮試驗爐

◆分段分區控制爐

◆溫度梯度爐

◆爐氣分析

◆超導陶瓷退火爐